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  • 201710-20
    Harrick等離子清洗機的結構組成

    Harrick等離子清洗機采用電感耦合高密度等離子體(ICP),能快速去除晶圓上之殘留光阻(光刻膠),達到晶圓表面潔凈,Harrick等離子清洗機具有蝕刻率高,無電極污染,離子能量低,不損傷基板等優點。Harrick等離子清洗機的結構組成,...

  • 20179-19
    選購勻膠旋涂機需要注意的細節

    勻膠旋涂機工作原理是高速旋轉基片,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上,勻膠旋涂機常用于各種溶膠凝膠(Sol-Gel)實驗中的薄膜制作,厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同,也和旋轉速度及時間有關??梢栽O定多達20個程序段來存儲不...

  • 20178-17
    微波等離子去膠機設計緊湊美觀

    微波等離子去膠機概述:Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統,可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理,也可以作為單片處理,系統為計算機全自動控制的系統。典型工藝包含:大劑量離子注入后的光刻膠去除;干法刻蝕工藝的前處理...

  • 20177-17
    PDC-002等離子清洗機的清洗技術

    PDC-002等離子清洗機是一種小型化、超清洗設備。該款等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質,有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。這款等離子體表面處理儀外接一臺真空非破壞性的泵,工作時等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體...

  • 20176-19
    等離子清洗機是一種全新的高科技技術

    等離子清洗機分大氣壓的和真空的兩大類,大氣的又分為帶狀等離子清洗機和電暈機兩種,真空等離子清洗機在加入腐蝕性氣體后,具備蝕刻能力,通常蝕刻膠水和電氣走線,應用在PCB及芯片行業。等離子清洗機是一種全新的高科技技術,利用等離子體來達到常規清洗...

  • 20175-16
    擴展型等離子清洗機的清洗原理與創新

    擴展型等離子清洗機采用氣體作為清洗介質,有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清...

  • 20174-17
    等離子清洗機起源于20世紀初

    等離子清洗機采用氣體作為清洗介質,有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清洗程度...

  • 20173-20
    等離子清洗機的技術是一新興的領域

    等離子清洗機采用氣體作為清洗介質,能夠有效地避免液體清洗介質對清洗物產生的二次污染。外接的真空泵,清洗腔中等離子體沖刷被洗物的表面,短時間就能夠將有機污染物*清洗掉,于此同時,污染物還被真空泵抽走,這樣就達到了清洗的目的。在特定的環境中,可...

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