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  • KLA Candela® 8420表面缺陷檢測系統
    KLA Candela® 8420表面缺陷檢測系統

    KLA Candela® 8420表面缺陷檢測系統它使用多通道檢測和基于規則的缺陷分類,對不透明、半透明和透明晶圓(如砷化鎵、磷化銦、鉭酸鋰、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石和其他化合物半導體材料)提供微粒和劃痕檢測。 8420表面缺陷檢測系統采用了專有的OSA(光學表面分析儀)架構,可以同時測量散射強度、形貌變化、表面反射率和相位變化,從而對各種關鍵缺陷進行自動檢測與分類。

    更新時間:2025-05-09型號:瀏覽量:757
  • KLA Candela® 7100系列缺陷檢測和分類系統
    KLA Candela® 7100系列缺陷檢測和分類系統

    KLA Candela® 7100系列缺陷檢測和分類系統為硬盤驅動器基板和介質提供了高級缺陷檢測和分類功能。7100系列硬盤驅動器缺陷檢測和分類系統以經過生產驗證的Candela產品系列為基礎,可幫助制造商對關鍵的亞微米缺陷進行檢測和分類,如微凹坑、凸起、微粒以及被埋入的缺陷,從而最大限度地提高良率并降低總檢測成本。

    更新時間:2025-03-09型號:瀏覽量:469
  • KLA Candela® 6300系列光學表面分析儀系統
    KLA Candela® 6300系列光學表面分析儀系統

    KLA Candela® 6300系列光學表面分析儀系統為金屬或玻璃數據存儲基板和成品介質提供了先進的量測和檢測功能。隨著數據存儲制造商努力通過進一步降低磁頭飛行高度來提高設備存儲容量,控制磁盤表面的粗糙度變得越來越重要。6300系列光學表面分析儀利用業界最寬的空間帶寬覆蓋范圍(0.22-2000µm)和亞埃級本底噪聲來滿足對粗糙度和微觀波紋度進行全面測量的要求。

    更新時間:2025-03-09型號:瀏覽量:404
  • KLA Candela® 8720表面缺陷檢測系統
    KLA Candela® 8720表面缺陷檢測系統

    KLA Candela® 8720表面缺陷檢測系統*的集成式表面和光致發光(PL)缺陷檢測系統可以捕獲各種關鍵襯底和外延缺陷。采用統計制程控制(SPC)的方法來進行自動晶圓檢測,可顯著降低由外延缺陷導致的良率損失,最大限度地減少金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)反應器的工藝偏差,并增加MOCVD反應器的正常運行時間。

    更新時間:2025-08-14型號:瀏覽量:617
  • KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統
    KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統

    KLA Candela® 8520表面缺陷檢測系統第二代集成式光致發光和表面檢測系統,設計用于對碳化硅和氮化鎵襯底上的外延缺陷進行高級表征。采用統計制程控制(SPC)的方法來進行自動晶圓檢測,可顯著降低由外延缺陷導致的良率損失,最大限度地減少金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)反應器的工藝偏差,并增加MOCVD反應器的正常運行時間。

    更新時間:2025-05-09型號:瀏覽量:1903
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